Mechanisms of SiO 2 Etching: Ab Initio Calculations on the Reactions of CF m - ( m = 3−1) and NF n - ( n = 2, 1) Ions with Local Surface Models

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	The journal of physical chemistry. B 1997-07, Vol.101 (27), p.5377-5381
1. Verfasser:	Jenichen, Arndt
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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