Area-Selective ALD of TiO 2 Nanolines with Electron-Beam Lithography

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of physical chemistry. C 2014-10, Vol.118 (40), p.23306-23312
Hauptverfasser:	Huang, Jie, Lee, Mingun, Lucero, Antonio, Cheng, Lanxia, Kim, Jiyoung
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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