First-Principles Study of a Full Cycle of Atomic Layer Deposition of SiO 2 Thin Films with Di( sec -butylamino)silane and Ozone

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of physical chemistry. C 2013-09, p.130911145338002
Hauptverfasser:	Huang, Liang, Han, Bo, Han, Bing, Derecskei-Kovacs, Agnes, Xiao, Manchao, Lei, Xinjian, O’Neill, Mark L., Pearlstein, Ronald M., Chandra, Haripin, Cheng, Hansong
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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