Bond Insertion, Complexation, and Penetration Pathways of Vapor-Deposited Aluminum Atoms with HO- and CH 3 O-Terminated Organic Monolayers
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Veröffentlicht in: | Journal of the American Chemical Society 2002-05, Vol.124 (19), p.5528-5541 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0002-7863 1520-5126 |
DOI: | 10.1021/ja0123453 |