Evaluation of (.eta.5-C5H5)(CO)Ni-In[(CH2)3N(CH3)2]2 as a Single-Molecule Precursor for OMCVD of Binary Ni/In alloys; Deposition of Phase-Pure Polycrystalline .epsilon.-NiIn

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Chemistry of materials 1995-10, Vol.7 (10), p.1863-1872
Hauptverfasser:	Fischer, Roland A, Scherer, Wolfgang, Kleine, Matthias, Lehmann, Olaf, Stuke, Michael
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Metals. Metallurgy Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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