Titanium isopropoxide as a precursor in atomic layer epitaxy of titanium dioxide thin films

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Chemistry of materials 1993-08, Vol.5 (8), p.1174-1181
Hauptverfasser: Ritala, Mikko, Leskela, Markku, Niinisto, Lauri, Haussalo, Pekka
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0897-4756
1520-5002
DOI:10.1021/cm00032a023