Structure and chemistry of silicon nitride and silicon carbonitride thin films deposited from ethylsilazane in ammonia or hydrogen

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Chemistry of materials 1992-03, Vol.4 (2), p.478-483
Hauptverfasser: Bae, Y. W, Du, H, Gallois, B, Gonsalves, K. E, Wilkens, B. J
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0897-4756
1520-5002
DOI:10.1021/cm00020a044