Kinetic model for metal-organic chemical vapor deposition of gallium arsenide with organometallic-arsenic precursors

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Chemistry of materials 1990-01, Vol.2 (1), p.39-49
Hauptverfasser:	Omstead, Thomas R, Jensen, Klavs F
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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