Comparison of CH, C 3 , CHF, and CF 2 Surface Reactivities during Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Fluorocarbon Films

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	ACS applied materials & interfaces 2009-04, Vol.1 (4), p.934-943
Hauptverfasser:	Liu, Dongping, Cuddy, Michael F., Fisher, Ellen R.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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