Structure and Electrical Properties of Al-Doped HfO 2 and ZrO 2 Films Grown via Atomic Layer Deposition on Mo Electrodes

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:ACS applied materials & interfaces 2014-12, Vol.6 (24), p.22474-22482
Hauptverfasser: Yoo, Yeon Woo, Jeon, Woojin, Lee, Woongkyu, An, Cheol Hyun, Kim, Seong Keun, Hwang, Cheol Seong
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1944-8244
1944-8252
DOI:10.1021/am506525s