Controlling the Al-Doping Profile and Accompanying Electrical Properties of Rutile-Phased TiO 2 Thin Films

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	ACS applied materials & interfaces 2014-05, Vol.6 (10), p.7910-7917
Hauptverfasser:	Jeon, Woojin, Rha, Sang Ho, Lee, Woongkyu, Yoo, Yeon Woo, An, Cheol Hyun, Jung, Kwang Hwan, Kim, Seong Keun, Hwang, Cheol Seong
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!