Understanding and Control of Polymer Distribution in Photoresists Using Liquid Chromatography for Enhanced Lithography Performance

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	ACS applied polymer materials 2023-12, Vol.5 (12), p.10091-10096
Hauptverfasser:	Im, Kyuhyun, Lee, Chang Heon, Kim, Minsang, Giannopoulos, Iason, Kazazis, Dimitrios, Ekinci, Yasin, Kwak, Yoonhyun
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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