Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride from Bis( tert -butylamino)silane and N 2 Plasma

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	ACS applied materials & interfaces 2015-09, Vol.7 (35), p.19857-19862
Hauptverfasser:	Knoops, Harm C. M., Braeken, Eline M. J., de Peuter, Koen, Potts, Stephen E., Haukka, Suvi, Pore, Viljami, Kessels, Wilhelmus M. M.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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