Influence of the Annealing Temperature and Applied Electric Field on the Reliability of TiN/Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 /TiN Capacitors

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	ACS applied electronic materials 2021-10, Vol.3 (10), p.4317-4327
Hauptverfasser:	Khakimov, Roman R., Chernikova, Anna G., Lebedinskii, Yury, Koroleva, Aleksandra A., Markeev, Andrey M.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!