Atomic Layer Deposition of Al 2 O 3 Using Aluminum Triisopropoxide (ATIP): A Combined Experimental and Theoretical Study

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of physical chemistry. C 2019-01, Vol.123 (1), p.485-494
Hauptverfasser:	Tai, Truong Ba, Cao, LiAo, Mattelaer, Felix, Rampelberg, Geert, Hashemi, Fatemeh S. M., Dendooven, Jolien, van Ommen, J. Ruud, Detavernier, Christophe, Reyniers, Marie-Françoise
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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