Area-Selective Deposition of Ruthenium by Combining Atomic Layer Deposition and Selective Etching

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Chemistry of materials 2019-06, Vol.31 (11), p.3878-3882
Hauptverfasser:	Vos, Martijn F. J, Chopra, Sonali N, Verheijen, Marcel A, Ekerdt, John G, Agarwal, Sumit, Kessels, Wilhelmus M. M, Mackus, Adriaan J. M
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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