Thermal Atomic Layer Deposition of Titanium Films Using Titanium Tetrachloride and 2‑Methyl-1,4-bis(trimethylsilyl)-2,5-cyclohexadiene or 1,4-Bis(trimethylsilyl)-1,4-dihydropyrazine

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Chemistry of materials 2015-07, Vol.27 (14), p.4918-4921
Hauptverfasser:	Klesko, Joseph P, Thrush, Christopher M, Winter, Charles H
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!