Dysprosium Incorporation for Phase Stabilization of Atomic-Layer-Deposited HfO 2 Thin Films

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Chemistry of materials 2023-03, Vol.35 (6), p.2312-2320
Hauptverfasser: Lee, Yujin, Kim, Kangsik, Lee, Zonghoon, Lee, Hong-Sub, Lee, Han-Bo-Ram, Kim, Woo-Hee, Oh, Il-Kwon, Kim, Hyungjun
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0897-4756
1520-5002
DOI:10.1021/acs.chemmater.2c02862