HCl Flow-Induced Phase Change of α-, β-, and ε-Ga 2 O 3 Films Grown by MOCVD

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Crystal growth & design 2018-04, Vol.18 (4), p.2370-2376
Hauptverfasser:	Sun, Haiding, Li, Kuang-Hui, Castanedo, C. G. Torres, Okur, Serdal, Tompa, Gary S., Salagaj, Tom, Lopatin, Sergei, Genovese, Alessandro, Li, Xiaohang
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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