Heteroepitaxial Growth of Thick α-Ga 2 O 3 Films on Sapphire Substrates by Flow Modulation Epitaxy with Halide Vapor Phase Epitaxy

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Crystal growth & design 2024-01, Vol.24 (1), p.205-213
Hauptverfasser: Lee, Gieop, Cha, An-Na, Cho, Sea, Chung, Jeong Soo, Moon, Young-Boo, Ha, Jun-Seok
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1528-7483
1528-7505
DOI:10.1021/acs.cgd.3c00882