$How to Avoid Artifacts in Nanobeam Diffraction Strain Measurements$

How to Avoid Artifacts in Nanobeam Diffraction Strain Measurements

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Microscopy and microanalysis 2017-07, Vol.23 (S1), p.1420-1421
Hauptverfasser:	Fu, B., Gribelyuk, M., Baumann, Frieder H., Wang, Yun-yu
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Characterization of Semiconductor Materials and Devices Physical Science Symposia
Online-Zugang:	Volltext
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