In Situ Biasing TEM Characterization of Resistive Switching Phenomena in TiO 2 -based RRAM

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Microscopy and microanalysis 2014-08, Vol.20 (S3), p.1548-1549
Hauptverfasser: Kwon, Jonghan, Sharma, Abhishek A., Bain, James A., Picard, Yoosuf N., Skowronski, Marek
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1431-9276
1435-8115
DOI:10.1017/S1431927614009477