Elastic backscattering during boron implantation in Si1-Ge

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Vacuum 2024-01, Vol.219, p.112740, Article 112740
Hauptverfasser:	Bai, Quan, Dialameh, Masoud, Morris, Richard J.H., Vickridge, Ian, Vantomme, André, Meersschaut, Johan
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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