In-situ thermal cleaning of the sapphire substrate and temperature effect on epitaxial AlN
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Veröffentlicht in: | Vacuum 2022-11, Vol.205, p.111455, Article 111455 |
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Hauptverfasser: | , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0042-207X |
DOI: | 10.1016/j.vacuum.2022.111455 |