Multifactorial investigations of the deposition process – Material property relationships of ZnO:Al thin films deposited by magnetron sputtering in pulsed DC, DC and RF modes using different targets for low resistance highly transparent films on unheated substrates

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Vacuum 2022-09, Vol.203, p.111299, Article 111299
Hauptverfasser: Wójcicka, Aleksandra, Fogarassy, Zsolt, Rácz, Adél, Kravchuk, Tatyana, Sobczak, Grzegorz, Borysiewicz, Michał A.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0042-207X
DOI:10.1016/j.vacuum.2022.111299