Area-selective atomic layer deposition of Ru thin films using phosphonic acid self-assembled monolayers for metal/dielectric selectivity

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Materials letters 2022-12, Vol.328, p.133187, Article 133187
Hauptverfasser:	Lee, Seo-Hyun, Lee, Jeong-Min, Lee, Ji Hun, Kwak, Junghun, Chung, Sung-Woong, Kim, Woo-Hee
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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