High performance foreign-dopant-free ZnO/Al Ga N ultraviolet phototransistors using atomic-layer-deposited ZnO emitter layer

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of alloys and compounds 2023-03, Vol.937, p.168433, Article 168433
Hauptverfasser: Wen, Quan, Lv, Zesheng, Lai, Shiquan, Li, Leyi, Jiang, Hao
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0925-8388
DOI:10.1016/j.jallcom.2022.168433