Conduction mechanism and impedance analysis of HfO x -based RRAM at different resistive states

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied surface science 2022-10, Vol.600, p.154084, Article 154084
Hauptverfasser:	Bai, Jiao, Xie, Weiwei, Zhang, Weiqi, Yin, Zhipeng, Wei, Shengsheng, Qu, Dehao, Li, Yue, Qin, Fuwen, Zhou, Dayu, Wang, Dejun
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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