Molecular Dynamics Study of Substrate Temperature and Incident Energy Influence on the Crystallization Behavior of Alumina Thin Film Deposition Process

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of materials engineering and performance 2024-09
Hauptverfasser:	Jiang, Wei, Sun, Yuanliang, Zhou, Guangxue, Liu, Yang, Dai, Hongbin, Wang, Enhao
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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