Development of a diffusion barrier layer for silicon and carbon in molybdenum—a physical vapor deposition approach

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Metallurgical and materials transactions. A, Physical metallurgy and materials science Physical metallurgy and materials science, 1999-03, Vol.30 (13), p.799-806
Hauptverfasser:	Govindarajan, S., Moore, J. J., Disam, J., Suryanarayana, C.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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