Improving anti-reflectivity and laser damage threshold of $$\hbox {SiO}_{2}/\hbox {ZrO}_{2}$$ SiO 2 / ZrO 2 thin films by laser shock peening at 1064 nm
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Veröffentlicht in: | Optical and quantum electronics 2014-09, Vol.46 (9), p.1149-1155 |
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Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0306-8919 1572-817X |
DOI: | 10.1007/s11082-013-9846-2 |