Improving anti-reflectivity and laser damage threshold of $$\hbox {SiO}_{2}/\hbox {ZrO}_{2}$$ SiO 2 / ZrO 2 thin films by laser shock peening at 1064 nm

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Optical and quantum electronics 2014-09, Vol.46 (9), p.1149-1155
Hauptverfasser: Maleki, Mohammad H., Abbasi, Sanaz, Vaezzade, Majid, Asgari, Amir
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0306-8919
1572-817X
DOI:10.1007/s11082-013-9846-2