Electrical and optoelectronic properties for devices that use MoS2 deposited on Si substrates with and without (NH4)2S x treatment by chemical vapor deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of materials science. Materials in electronics 2018-01, Vol.29 (1), p.351-356
Hauptverfasser: Su, Ting-Hong, Wu, Chang-Lin, Chang, Hsing-Cheng, Lin, Yow-Jon
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0957-4522
1573-482X
DOI:10.1007/s10854-017-7923-1