Analytics of CVD processes in the deposition of SiC by methyltrichlorosilane

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Mikrochimica acta (1966) 2000-01, Vol.133 (1-4), p.209-214
Hauptverfasser:	HEINRICH, J, HEMELTJEN, S, MARX, G
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Analytical chemistry Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Chemistry Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics Spectrometric and optical methods
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