Interplay of surface morphology, strain relief, and surface stress during surfactant mediated epitaxy of Ge on Si

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied physics. A, Materials science & processing Materials science & processing, 1999-11, Vol.69 (5), p.481-488
Hauptverfasser:	Zahl, P., Kury, P., Horn von Hoegen, M.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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