A model of strain relaxation in hetero-epitaxial films on compliant substrates

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Veröffentlicht in:Applied physics. A, Materials science & processing Materials science & processing, 1998, Vol.66 (1), p.13-22
Hauptverfasser: KÄSTNER, G, GÖSELE, U, TAN, T. Y
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0947-8396
1432-0630
DOI:10.1007/s003390050631