Reactive ion etching of gallium nitride films

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of electronic materials 1996-05, Vol.25 (5), p.835-837
Hauptverfasser:	Lee, Heon, Oberman, David B., Harris, James S.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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