Electrical characteristics of diodes fabricated in selective Si/Si1−x Ge x epitaxial layers

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of electronic materials 1992-08, Vol.21 (8), p.817-824
Hauptverfasser: Kamins, T. I., Nauka, K., Jacowitz, R. D., Hoyt, J. L., Noble, D. B., Gibbons, J. F.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0361-5235
1543-186X
DOI:10.1007/BF02665521