Effects of HCl and Cl2 additions on silicon oxidation kinetics

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of electronic materials 1974-05, Vol.3 (2), p.371-389
Hauptverfasser: van der Meulen, Y. J., Cahill, J. G.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0361-5235
1543-186X
DOI:10.1007/BF02652948