Ion-induced densification of pvd films : a choice of the optimum density of ion bombardment

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied physics. A, Materials science & processing Materials science & processing, 1996-10, Vol.63 (4), p.399-401
Hauptverfasser:	GRIGOROV, G. I, GRIGOROV, K. G, SPORKEN, R, CAUDANO, R
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Ion and electron beam-assisted deposition ion plating Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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