Hybrid electron cyclotron resonance-radio-frequency plasma etching of III?V semiconductors in Cl2-based discharges. Part II: InP and related compounds

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Plasma chemistry and plasma processing 1991-12, Vol.11 (4), p.423-438
Hauptverfasser:	Pearton, S. J., Hobson, W. S., Chakrabarti, U. K., Katz, A., Perley, A. P.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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