The effect of a mobile charge in silicon dioxide on the surface-states density of an MOS structure
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Veröffentlicht in: | Soviet Physics Journal 1976-03, Vol.19 (3), p.378-379 |
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Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0038-5697 1573-9228 |
DOI: | 10.1007/BF00945697 |