Acoustooptical spectrometric control of process of plasmochemical etching of a masking photoresistive layer and silicon structures

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of applied spectroscopy 1990-01, Vol.52 (1), p.86-89
Hauptverfasser:	Bizen, F. L., Zhogun, V. N., Zemtsovskii, S. I., Pustovoit, V. I., Ponomareva, N. A., Tirashkevich, I. M., Tyablikov, A. V., Pal'tsev, L. L.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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