Nondestructive topographic evaluation of ion implanted layers on GaAs substrates by optical absorption

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied Physics A Solids and Surfaces 1988-10, Vol.47 (2), p.115-118
Hauptverfasser:	WINDSCHEIF, J, WETTLING, W, JANTZ, W
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!