Infrared spectroscopy of oxide layers on technical Si wafers

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied Physics A Solids and Surfaces 1986-04, Vol.39 (4), p.257-268
Hauptverfasser: GROSSE, P, HARBECKE, B, HEINZ, B, MEYER, R, OFFENBERG, M
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0721-7250
1432-0630
DOI:10.1007/bf00617270