Benefit of Modern Arc Management in MF Dual Magnetron Sputtering Power Supplies: Stable deposition process for a wide range of materials

For modern large area coatings reactive dual magnetron sputtering (DMS) is a widespread technology. Economic constraints and advanced technology calls for increasing process flexibility regarding target utilization as well as the use of new materials. This in turn raises demands to the arc handling capabilities of the power supplies. On the one hand, a stable process at high arcing rates demands short arc blanking times and fast recovery to full output power. On the other hand, some materials tend to the formation of so‐called “hard” arcs, with hot cathode spots. In this case, longer treatment times are needed. The benefit of modern arc handling capabilities is demonstrated for reactive SiO 2 deposition from heavily used targets. For other demanding materials with low melting point, favourable operating modes are investigated. Vorteile eines modernen Arc‐Managements in Stromversorgungen für das duale Magnetronsputtern Für moderne Großflächenbeschichtung ist das reaktive duale Magnetron‐Sputtern (DMS) eine weit verbreitete Technologie. Wirtschaftliche Rahmenbedingungen und der technologische Fortschritt verlangen eine zunehmende Flexibilität in Bezug auf Target‐Ausnutzung und die Verwendung neuer Materialien. Dies wiederum erhöht die Anforderungen an die Stromversorgungen. Im Fall des sogenannten „Arcens”︁ muss die Stromversorgung zuverlässig und kurzzeitig austasten können. Einerseits muss für einen stabilen Prozess die Austastung möglichst kurz sein, andererseits verlangen einige Materialien längere Austatzeiten, um ein direktes Wiederzünden zu vermeiden. Die Vorteile eines modernen Arc‐Managements werden anhand der Beschichtung von SiO 2 von stark gebrauchten Targets und für weitere anspruchsvolle Materialien gezeigt.