Retraction: Stress Relaxation Mechanism in the Si‐SiO 2 System and Its Influence on the Interface Properties

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Physica status solidi. C 2017-11, Vol.14 (11)
Hauptverfasser:	Kropman, Daniel, Seeman, Viktor, Dolgov, Sergei, Heinmaa, Ivo, Medvid, Artur
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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