Ion-Bombardment Enhanced Solubility in Solids

Two labelling techniques are developed which are based on injection of small concentrations of radioactive atoms with a known concentration profile. These techniques are used for studying enhancement of solubility in mica, Al2O3, and NiO induced in these substances by bombardment with Kr ions with energies in the keV region. Mica is found to be the most sensitive, an enhanced solubility of the surface layer being detected for doses as low as 5 × 1012 ions/cm2. The depth of the soluble layer is found to be comparable with the range of the ions. The effects of ion bombardment on solubility seem to arise from lattice damage resulting from the bombardment rather than from the presence of the injected gas. Zwei Markierungsverfahren werden entwickelt, die auf Einschuß von radioaktiven Atomen kleiner Konzentration von bekanntem Konzentrationsprofil begründet sind. Die Verfahren werden zur Untersuchung der durch Ionenbombardierung durch Kryptonionen mit Energien im keV‐Bereich erhöhten Löslichkeit von Glimmer, Al2O3 und NiO benutzt. Die größte Empfindlichkeit wird an Glimmer gefunden, wo eine Erhöhung der Löslichkeit der Oberflächenschicht bereits nach einer Dosis von 5 × 1012 Ionen/cm2 festgestellt wird. Die Dicke der löslichen Schicht ist mit der Reichweite der Ionen vergleichbar. Die Ursache der erhöhten Löslichkeit scheint eher in den Gitterschäden, die durch Ionenbombardierung hervorgerufen werden, als in der Anwesenheit des eingeschossenen Gases zu liegen.