Charge Instability in MIS Structures on Silicon with PECVD Boron Nitride Thin Films

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Physica status solidi. A, Applied research Applied research, 1992-10, Vol.133 (2), p.K57-K60
Hauptverfasser:	Korshunov, A. N., Kosinova, M. L., Salman, E. G., Rumyantsev, Yu. M., Fainer, N. I., Sysoeva, N. P., Akkerman, Z. L.
Format:	Artikel
Sprache:	ger
Online-Zugang:	Volltext
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