Low temperature plasma‐enhanced ALD TiN ultrathin films for Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 ‐based ferroelectric MIM structures

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Physica status solidi. A, Applications and materials science Applications and materials science, 2017-06, Vol.214 (6)
Hauptverfasser:	Kozodaev, M. G., Lebedinskii, Y. Y., Chernikova, A. G., Polyakov, S. N., Markeev, A. M.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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