c -C 4 F 8 Plasmas for the Deposition of Fluorinated Carbon Films: c -C 4 F 8 Plasmas for the Deposition of Fluorinated Carbon Films

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Plasma processes and polymers 2014-03, Vol.11 (3), p.289-299
Hauptverfasser:	Terriza, Antonia, Macías-Montero, Manuel, López-Santos, Maria C., Yubero, Francisco, Cotrino, José, González-Elipe, Agustín R.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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